在半导体制造上，国内厂商需要突破的不只是光刻机等核心设备，光刻胶也是重要的一环。南大光电日前宣布，该公司研发的高端ArF光刻机已经获得了国内某企业的认证，用于55nm工艺制造。 南大光电于...